专利名称：测定痕量钼的催化反应－共振散射光谱法专利类型：发明专利
发明人：蒋治良,覃惠敏,凌秀超,康彩艳申请号：CN200910114141.5申请日：20090612公开号：CN101576490A公开日：20091111
摘要：本发明公开了一种测定痕量钼的催化反应－共振散射光谱法，其特征是：包括如下步骤：(1)制备钼的标准体系；(2)制备空白对照体系；(3)取适量于石英池中，置于荧光分光光度计上，同步扫描(λ＝λ)，测定540nm处的共振散射光强度I，空白体系的空白值为(I)，计算ΔI＝I－(I)；(4)以ΔI对钼的浓度关系作工作曲线；(5)依照步骤(1)的方法制备检测体系，求出被测物的ΔI；(6)依据(4)的工作曲线，计算出被测物的钼的浓度。此方法具有灵敏度高、选择性好、操作简便、安全无毒、所用试剂便宜等优点。
申请人：广西师范大学
地址：541004 广西壮族自治区桂林市育才路15号
国籍：CN
代理机构：桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司
代理人：孙伊滨
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容