离轴对准系统及其对准方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN2009100481.3 （22）申请日 2009.03.31

（71）申请人 上海微电子装备有限公司

地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

（10）申请公布号 CN101533231A

（43）申请公布日 2009.09.16

（72）发明人 方立;孙刚

（74）专利代理机构 上海思微知识产权代理事务所

代理人 屈蘅

（51）Int.CI

G03F9/00; G03F7/20;

权利要求说明书 说明书 幅图

（）发明名称

离轴对准系统及其对准方法

（57）摘要

本发明提供一种离轴对准系统，用于光刻

装置确定硅片与工件台的位置关系。离轴对准系统包括：沿X向和Y向放置激光干涉仪，测量离轴光轴和工件台的位置；零位传感器，放置在工件台最大运动范围的边缘，提供激光干涉仪初始化信号；离轴光学系统和其侧面的两个离轴反射面，与X、Y向分别垂直；以及工件台侧面两个工

件台反射面，与X、Y轴分别垂直，所述离轴反射面和所述工件台反射面用来反射所述激光干涉仪发出的测量光束。本发明提供的离轴对准系统中加入激光干涉仪，能够实时检测离轴对准系统中离轴光轴的偏移，保证了硅片对准的精度。

法律状态

法律状态公告日

2009-09-16 2009-09-16 2009-11-11 2009-11-11 2011-09-28 2011-09-28 2017-07-04

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

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