一种物理气相沉积PVD溅射镀膜装置[实用新型专利]

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专利名称：一种物理气相沉积PVD溅射镀膜装置专利类型：实用新型专利发明人：李正亮,刘震,孙冰,曹占锋申请号：CN201420042074.7申请日：20140122公开号：CN203715716U公开日：20140716

摘要：本实用新型实施例提供一种物理气相沉积PVD溅射镀膜装置，涉及显示技术领域，通过对光谱吸收装置接收辉光的波长的判断，确定靶材是否被击穿，减小了靶材击穿事故的发生率，提高了生产产品的成功率。该物理气相沉积PVD溅射镀膜装置包括真空腔体，设置于所述真空腔体内的靶材、基板及供气系统，设置于所述真空腔体内的光谱吸收装置，设置于所述真空腔体外与所述光谱吸收装置连接的光谱分析仪，以及与所述光谱分析仪连接的报警装置。

申请人：京东方科技集团股份有限公司

地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

国籍：CN

代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司

代理人：申健

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