电极抛光清洗器[实用新型专利]

来源：小侦探旅游网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：电极抛光清洗器专利类型：实用新型专利发明人：孙志杰

申请号：CN200820075382.4申请日：20080718公开号：CN201320718Y公开日：20091007

摘要：本实用新型涉及一种电极抛光清洗器，包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵；所述固定架台上设有旋转盘支架，旋转盘支架上部同轴设有旋转盘，设有电机连接驱动旋转盘旋转；所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上，定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方；所述旋转盘呈内凹形，旋转盘内底部平行设有抛光材料衬；对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器，采用导管一端连接蠕动泵，另一端置于旋转盘的上方，旋转盘中心处设有渗漏孔；所述储液器内设有抛光剂。本实用新型能够自动完成对电极抛光清洗工作，并保证电极表面平整、光洁，确保实验数据的准确，其结构简单、性能可靠。

申请人：天津市技术物理研究所

地址：300192 天津市南开区白堤路246号

国籍：CN

代理机构：天津市三利专利商标代理有限公司

代理人：刘英兰

更多信息请下载全文后查看

因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容

查看全文