一种提升硅片扩散方阻均匀性的装置[实用新型专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种提升硅片扩散方阻均匀性的装置专利类型：实用新型专利

发明人：许文凤,闫新春,陈龙,郭兴刚,张满良,梁汉杰申请号：CN201320765360.1申请日：20131129公开号：CN203674241U公开日：20140625

摘要：本实用新型公开了一种提升硅片扩散方阻均匀性的装置，它包括：进气装置、石英管、排废管、匀流板和石英舟，所述的石英管上固设有进气装置，石英管的底部设有排废管，排废管的上部设有匀流板，匀流板的右部设有石英舟，该装置减少了硅片片内方阻梯度，提高扩散方阻的片内均匀性，并通过改善扩散后硅片方阻的均匀性，减小印刷烧结后接触电阻的大小，从而提升电池片效率。

申请人：奥特斯维能源(太仓)有限公司

地址：2134 江苏省苏州市太仓市太仓港港口开发区平江路88号

国籍：CN

代理机构：南京苏高专利商标事务所(普通合伙)

代理人：刘燕娇

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