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一种深度测量装置及测量方法[发明专利]

来源:小侦探旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种深度测量装置及测量方法专利类型:发明专利发明人:许星

申请号:CN201911305980.5申请日:20191218公开号:CN1111232A公开日:20200508

摘要:本发明公开了一种深度测量装置,包括:发射模块,其包括光源阵列,所述光源阵列包括至少两个子光源阵列,以分别发射第一和第二斑点图案光束;其中,所述第一、第二斑点图案光束是在时序上振幅被调制的光束;接收模块,其包括有TOF图像传感器,所述传感器包括有像素阵列,所述像素阵列接收目标物体反射的第一斑点图案光束获取强度信息;或,接收目标物体反射的第二斑点图案光束获取相位信息;控制和处理电路,利用所述强度信息以形成灰度图,并利用所述灰度图计算出结构光深度图像;或,利用所述相位信息计算出相位差,基于所述相位差计算出TOF深度图像。本发明基于不同的测量需求可进行合理的调制,从而可满足不同应用场景的需要。

申请人:深圳奥比中光科技有限公司

地址:518000 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼

国籍:CN

代理机构:深圳汉世知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人:田志立

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