一种深度测量装置及测量方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种深度测量装置及测量方法专利类型：发明专利发明人：许星

申请号：CN201911305980.5申请日：20191218公开号：CN1111232A公开日：20200508

摘要：本发明公开了一种深度测量装置，包括：发射模块，其包括光源阵列，所述光源阵列包括至少两个子光源阵列，以分别发射第一和第二斑点图案光束；其中，所述第一、第二斑点图案光束是在时序上振幅被调制的光束；接收模块，其包括有TOF图像传感器，所述传感器包括有像素阵列，所述像素阵列接收目标物体反射的第一斑点图案光束获取强度信息；或，接收目标物体反射的第二斑点图案光束获取相位信息；控制和处理电路，利用所述强度信息以形成灰度图，并利用所述灰度图计算出结构光深度图像；或，利用所述相位信息计算出相位差，基于所述相位差计算出TOF深度图像。本发明基于不同的测量需求可进行合理的调制，从而可满足不同应用场景的需要。

申请人：深圳奥比中光科技有限公司

地址：518000 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼

国籍：CN

代理机构：深圳汉世知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：田志立

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